公司简介

苏州晶洲装备科技有限公司（展位号：特5F18）2011年成立于苏州常熟高新技术产业开发区辛庄工业园，业务范围集研发、设计、制造、销售及售后为一体，专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸相配套的环保及智能数据，如废液在线回收系统、机器人运用等关键自动化系统，是一家具备高新技术企业资质的高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商。

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苏州晶洲装备科技有限公司以国际视野、国产装备为企业口号，在平板显示领域，从清洗、显影、刻蚀，到剥离、蒸镀前清洗，提供了切实有效的解决方案，以G8.5湿法刻蚀设备为代表，研发出清洗机、显影机、湿法刻蚀机、光阻剥离机、掩模版清洗机等一系列湿制程主工艺设备。

显影机

5.Low Running Cost.

湿法蚀刻机

适用工艺：ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu、Rework……

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

刻蚀类型：Multi-angle Oscilation Type Shower / Dip

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺能力：

1.Within Glass、Glass To Glass、Lot To Lot；

2.No Mura, No Roller Mark, No Contamination and No Scratch；

3.CD Uniformity；

4.CD Loss；

5.Low Running Cost.

光阻剥离机

适用工艺：Array，OLED，Rework

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

剥膜类型：Cascade Type Strip Shower

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺能力：

1.No PR, Chemical, Water Residue；

2.No Corrosion；

3.ESD Control；

4.No Mura, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；

掩膜版清洗机

清洗质量：无mura、水痕、锈斑、脏污，无损伤

平坦度：百微米级

Total Pitch变化：微米级

Defect数量：10ea

搬送重复精度：毫米级

温度稳定性：±1°（60°以内）

超声波：

4波段复频超声波，频率可自由切换