作为芯片生产制造环节最核心的设备，光刻机的研发难度极高，而在当下的全球光刻机供应商中，荷兰的ASML与日本尼康、佳能占据着全球90%以上的市场份额。其中，最高级的EUV（极紫外光）技术，更是只有ASML一家掌握。

基于ASML的“独家技术”，日前韩国科技巨头三星正盼望与其达成深度合作。据IT之家12月1日消息，近日ASML高管已参观三星的半导体工厂，双方讨论了在EUV光刻设备供应和开发方面的合作。

三星称，希望可以投资开发高数值孔径（High-Na）EUV设备，设备的价格预计为每台5000亿韩元（约合人民币30亿元），比现在的EUV设备高出2-3倍。

报道指出，目前ASML向台积电供应的相关设备比向三星供应的更多，基于此，三星希望可以先于台积电获得ASML的设备，以扩大其在全球代工市场的份额。

那么在光刻机领域，ASML与我国企业有达成相关合作吗？

此前ASML全球副总裁沈波就曾透露，目前中国已经购买了700多台ASML光刻机的装机；在今年的3-9月，该公司发往中国的光刻机台数还超过了全球总台数的20%。

ASML表示，中国将成为全球最大的成熟制程芯片市场，该公司正加快在中国市场的投资布局。除了国际巨头的加持，当前国产光刻机也有望迎来新的突破。

此前C114通信网消息称，上海微电子即将于2021年交付首台国产的28nm光刻机。若消息属实，我国对海外光刻机的依赖将有所缓解，国产芯片的制造也将被大大推动。

再者，当前三星也正盼能扩大在我国半导体市场的份额，而我国也很有可能从三星身上获得更先进的光刻机技术。据11月12日报道，当天三星首次面向我国市场发布了芯片产品Exynos1080，还宣布将向vivo供应5nm高端芯片。